学术交流

朱俊发: 同步辐射软X射线谱学技术及其在材料表界面结构研究中的应用

时间:2021-12-14来源:材料科学与工程学院

报告时间:2021年12月16日(星期四)11:00-11:50

报告地点:学术会议中心三楼报告厅

:朱俊发 教授

工作单位中国科学技术大学

举办单位:材料科学与工程学院

报告简介

固体材料的电子结构和化学性质决定着材料的性能和应用,因而对其深入研究,对于了解材料的构效关系、研发高性能的材料至关重要。同步辐射软X射线光谱技术,包括光电子发射谱(SRPES)、近边X射线吸收精细结构谱(NEXAFS)和X射线发射谱(XES)等是研究材料电子结构和化学性质的有力手段。本报告将首先简要介绍几种常见的同步辐射软X射线谱学技术,然后结合本课题组的工作,通过几个例子,简要介绍同步辐射软X射线谱学技术在材料表界面电子结构研究方面的应用。最后,再简要介绍本人所负责的合肥光源中两个基于软X射线谱学的线站功能和应用。希望通过这个介绍,让更多的在材料研究领域中的研究生和学者了解和应用同步辐射软X射线谱学技术。

报告人简介

朱俊发,现任中国科学技术大学国家同步辐射实验室和化学物理系双聘教授,博士生导师;国家同步辐射实验室科研部副主任、学术委员会委员。曾获教育部2007年“新世纪优秀人才支持计划”支持,2008年中国科学院“百人计划”择优支持、2014年度中国科学院青年科学家国际合作伙伴奖、2017年度中国科学院“朱李月华优秀教师”奖以及2017年和2021度“中国科学院优秀导师奖”等奖项。目前是国际ICSOS(International Conference on the Structures of Surfaces)顾问委员会成员(Advisory Committee),Surface Science杂志顾问编委(Advisory Editorial Board)和Surface Science Reports杂志的编辑(Editor)。开展同步辐射方法学发展、表面化学与催化、薄膜功能材料和有机光电器件表面与界面结构等方面的研究工作,共在 J. Am. Chem. Soc., Angew. Chem. Int. Ed.和Nature Comm.等国内外核心刊物上发表论文370余篇,论文被引用17400余次,H-index为73,连续三年(2019-2021)入选科睿唯安“高被引科学家”。

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